Arama butonu
Bu konudaki kullanıcılar: 1 misafir, 1 mobil kullanıcı
27
Cevap
571
Tıklama
0
Öne Çıkarma
Intel, 18A üretim teknolojisini tüm ayrıntılarıyla açıkladı: Hedefte TSMC var
M
3 hafta
Yarbay
Konu Sahibi

Intel, 18A üretim teknolojisini tüm ayrıntılarıyla açıkladı: Hedefte TSMC var
Intel, VLSI 2025 sempozyumunda yayımladığı teknik makaleyle 18A (1.8nm sınıfı) üretim süreci hakkında bugüne kadarki en kapsamlı bilgileri paylaştı. Yeni nesil 18A teknolojisi, hem güç tüketimi hem de performans açısından ciddi kazanımlar vadediyor. Intel, bu süreçle önceki nesil Intel 3’e kıyasla yoğunlukta yüzde 30, performansta yüzde 25 artış ya da güç tüketiminde yüzde 36 azalma sağlandığını belirtiyor.



Ancak daha da dikkat çekici olan, 18A teknolojisinin Intel’in uzun yıllar sonra ilk kez TSMC ile aynı anda rekabet edeceği bir üretim düğümü olması. Hem TSMC’nin 2nm teknolojisi hem de Intel’in 18A süreci, yılın ikinci yarısında seri üretime girecek.



Güç, performans, alan avantajları



Intel, 18A üretim teknolojisini tüm ayrıntılarıyla açıkladı: Hedefte TSMC var
Intel 18A süreci, hem istemci hem de veri merkezi uygulamalarını kapsayacak şekilde tasarlandı. Bu süreci kullanacak ilk ürün, yıl içinde duyurulması beklenen Panther Lake işlemcisi olacak.



Intel’in verilerine göre 18A, Intel 3’e kıyasla aynı voltajda yüzde 25 daha yüksek performans sunuyor. Tipik bir Arm çekirdeği alt bloğuyla yapılan karşılaştırmada, aynı saat hızında ve 1.1V voltajda yüzde 36 daha az enerji tüketimi sağlanıyor. Voltaj 0.75V’a düşürüldüğünde bile yüzde 18 hız artışı ve yüzde 38 enerji tasarrufu mümkün oluyor. Ayrıca aynı tasarım, Intel 3’e göre yüzde 28 daha az alan kaplıyor.



Intel, 18A üretim teknolojisini tüm ayrıntılarıyla açıkladı: Hedefte TSMC var
Ancak voltaj karşılaştırmalarında dikkat çeken bir fark var. Intel 3, 1.3V’a kadar destek vererek veri merkezi yüklerine daha uygunken, 18A bu seviyeyi desteklemiyor. 18A, 0.4V, 0.75V ve 1.1V seviyelerinde çalışıyor. Bu, istemci bilgisayarlar ve veri merkezi CPU'ları için çok iyi, ancak maksimum saat hızlarına ihtiyaç duyan koşullar için ideal olmayabilir. Ancak 18A’nın avantajları bu açığı telafi edebilir.



Intel, 18A üretim teknolojisini tüm ayrıntılarıyla açıkladı: Hedefte TSMC var
Öte yandan SRAM yoğunluğu da iyileştirildi. Intel 18A süreci, 31.8 Mb/mm² yoğunluğa sahip yeni bir SRAM hücresi sunuyor. Bu, Intel 4’teki 26.6 Mb/mm² seviyesine göre önemli bir artış. Yoğunluk açısından TSMC’nin 5nm ve 3nm süreçleriyle benzer, ancak TSMC’nin 2nm süreci yaklaşık 38 Mb/mm² ile daha yüksek bir seviyeye ulaşacak.



PowerVia dönemi başlıyor



Intel’in 18A süreci için en önemli noktalar ise ikinci nesil RibbonFET GAA (Gate-All-Around) transistör mimarisi ve PowerVia adını verdiği arka taraf güç iletim ağı (BSPDN) ile destekliyor olması.



PowerVia, güç iletim hatlarını yonganın ön yüzeyinden arka tarafına taşıyarak güç ve sinyal yollarını fiziksel olarak ayırıyor. Bu sayede sinyal karışmaları önleniyor, güç verimliliği artıyor ve transistör yoğunluğu daha da yükseliyor.



Intel’e göre PowerVia, transistör yoğunluğunu yüzde 8 ila 10 artırıyor. Bu da 18A’nın Intel 3’e kıyasla sunduğu toplam yüzde 30’luk yoğunluk artışının önemli bir kısmını oluşturuyor. Ayrıca, 18A ile gelen ön yüz metal katmanları, RC (direnç-kapasitans) performansında yüzde 12 iyileşme sunarken, via dirençleri de yüzde 24 ila 49 oranında azaltılmış. Intel ayrıca, voltaj düşüşünü Intel 3'e kıyasla 10 kata kadar azaltmayı başardığını bildiriyor.



Intel, 18A üretim teknolojisini tüm ayrıntılarıyla açıkladı: Hedefte TSMC var
Bunların yanı sıra, PowerVia ile güç ve sinyal yollarının ayrılması, yonga tasarımını sadeleştiriyor, daha sıkı mantık elemanı paketlemeye olanak tanıyor. Intel ayrıca bu yapıya özel geliştirdiği yüksek yoğunluklu MIM kapasitörle güç kararlılığını artırıyor.



Ayrıca Bkz.Intel Nova Lake-HX işlemciler doğrulandı: BGA2540 soketi geliyor



PowerVia, seri üretimde kullanılan ilk arka taraf iletim ağı olduğundan, Intel bu yapının dayanıklılığına da özel önem verdi. JEDEC standardına uygun testlerde, 110°C sıcaklık ve yüzde 85 nem koşullarında 275 saat boyunca stres testlerinden geçti. Bu zorlu koşullarda hiçbir yapısal ya da elektriksel bozulma gözlenmedi. SRAM üzerindeki uzun vadeli etkiler de test edildi. 1000 saatlik yüksek sıcaklık altında yapılan yaşlandırma testleri, SRAM'lerin minimum çalışma voltajını istikrarlı şekilde koruduğunu ve performans bozulması yaşanmadığını gösterdi.



Intel’in 18A teknolojisi sadece performans artışı ve enerji verimliliği değil, aynı zamanda üretim kolaylığı da sağlıyor. Intel, hem süreçte sadeleşme sağladığını hem de EUV maskeleme sayısını azalttığını söylüyor. Ek olarak, PowerVia’nın arka metal yapıları düşük direnç ve yüksek ısıl iletkenlik için tasarlandı. GAA transistörlerden kaynaklanan yüksek ısı yoğunluğu, bu sayede daha verimli dağıtılıyor. Bu arada PowerVia’nın, Intel’in Foveros 3D ve EMIB gibi gelişmiş paketleme teknolojileriyle uyumlu olduğu da doğrulandı.



Toparlayacak olursak; Intel, yalnızca yeni nesil GAA transistör mimarisi RibbonFET’i değil, aynı zamanda PowerVia gibi radikal bir altyapısal yenilik ile rekabete girişiyor olacak. Bu ikili sayesinde, Intel 3’e göre yüzde 25 performans artışı veya yüzde 36 enerji tasarrufu sağlanırken, transistör yoğunluğu da yüzde 30 artıyor.




Kaynak:https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/intel-details-18a-process-technology-boosts-performance-by-25-percent-or-lowers-power-consumption-by-36-percent

DH forumlarında vakit geçirmekten keyif alıyor gibisin ancak giriş yapmadığını görüyoruz.

Üye olduğunda özel mesaj gönderebilir, beğendiğin konuları favorilerine ekleyip takibe alabilir ve daha önce gezdiğin konulara hızlıca erişebilirsin.

Üye Ol Şimdi Değil

 Haberi Portalda Gör

E
2 hafta
Binbaşı

2 nm örneği: (İsteyenler, herhangi bir araç ile Türkçe'ye çevirir)

< Resime gitmek için tıklayın >

quote:

The term "2 nanometer", or alternatively "20 angstrom" (a term used by Intel), has no relation to any actual physical feature (such as gate length, metal pitch or gate pitch) of the transistors.


quote:

As such, 2 nm is used primarily as a marketing term by the semiconductor industry to refer to a new, improved generation of chips in terms of increased transistor density (a higher degree of miniaturization), increased speed, and reduced power consumption compared to the previous 3 nm node generation.


https://en.m.wikipedia.org/wiki/2_nm_process



< Bu ileti mini sürüm kullanılarak atıldı >
Bu mesaja 1 cevap geldi.

Bu mesajda bahsedilenler: @Mehmet 1980
DH Mobil uygulaması ile devam edin. Mobil tarayıcınız ile mümkün olanların yanı sıra, birçok yeni ve faydalı özelliğe erişin. Gizle ve güncelleme çıkana kadar tekrar gösterme.