Substrate, bu alandaki dengeyi kökten sarsabilecek iddialarla sahneye çıkmış durumda. Şirket, X-ışını tabanlı yeni bir litografi teknolojisi geliştirerek ASML’nin tekelini kıracağını ve çip üretim maliyetlerini dramatik biçimde düşüreceğini söylüyor. Bu vaadi bazı önemli kişilerde karşılık bulmuş gibi görünüyor. Zira şirket 28 Ekim’de yaptığı açıklamada 100 milyon dolarlık yeni bir yatırım turunu tamamladığını duyurdu. Bu son yatırım turuyla birlikte şirketin değeri 1 milyar doların üzerine çıktı. Üç yıl önce kurulan bu girişimin destekçileri arasında Peter Thiel, General Catalyst ve CIA destekli In-Q-Tel gibi önemli yatırımcılar bulunuyor.

Substrate, 10 Kat Daha Düşük Maliyete 2 Nanometre Çipler Vadediyor

Substrate CEO’su James Proud, geliştirdikleri sistemin 2 nanometre işlem süreci seviyesinde çip üretebildiğini ve bunu mevcut EUV sistemlerine göre 10 kat daha düşük maliyetle gerçekleştirebileceğini iddia ediyor. Şirkete göre günümüzde bir ileri seviye silikon plakanın üretim maliyeti yaklaşık 100.000 dolar civarındayken, bu rakam Substrate teknolojisiyle 10.000 doların altına düşebilir. Hedeflenen ticari üretim tarihi ise 2028.

Substrate’ın farkı, ışık kaynağında yatıyor. ASML’nin EUV sistemleri 13,5 nanometrelik dalga boyuna sahip lazerlerle çalışırken, Substrate X-ışını aralığında, yani 0,1 nanometre civarındaki çok daha kısa dalga boylarını kullanıyor. Bu, teorik olarak çok daha yüksek çözünürlükte desen basımı anlamına geliyor. X-ışınları sayesinde silikon üzerine daha ince, daha sık ve enerji açısından daha verimli devre yapıları kazınabiliyor. Ancak bu yaklaşımın ciddi teknik engelleri de var: X-ışınlarını hassas şekilde yönlendirmek, odaklamak ve üretim ortamında kontrol etmek bugüne dek kimsenin tam olarak başaramadığı bir mühendislik sorunu olarak biliniyor.

Substrate’ın sisteminin, Oak Ridge Ulusal Laboratuvarı’nda yapılan testlerde yüksek çözünürlüklü görüntüler üretebildiği belirtiliyor. Laboratuvarın yöneticilerinden Stephen Streiffer, bunun “ABD’nin bu pazarı yerli bir firma ile yeniden ele geçirmesi için tarihi bir fırsat” olabileceğini söylüyor.

Sektör Şüpheci: ASML’nin 40 Yıllık Avantajını 5 Yılda Kapatmak Mümkün mü?

Substrate, Peter Thiel gibi önemli yatırımcıları ikna etmiş olsa da yarı iletken sektöründeki birçok uzman, Substrate’ın hedeflerini “fazla iddialı” buluyor. Çünkü ASML’nin EUV litografi makinelerinin arkasında 40 yıllık Ar-Ge, binlerce patent ve optik mühendislikte olağanüstü ihtisas yatıyor. Son dönemde neredeyse her konuda Batılı rakiplerini yakalayan Çin bile yıllardır milyarlarca dolar harcamasına rağmen bu sistemleri kopyalamakta başarısız oldu. Dolayısıyla, sadece üç yıllık bir şirketin beş yıl içinde ASML’ye denk bir sistem geliştirebileceği iddiası, birçok uzman tarafından "olasılığı düşük” şeklinde değerlendiriliyor. Ayrıca X-ışını litografisinin en büyük sorunlarından biri, yüksek enerjili fotonların sistemdeki maskeleri, lensleri ve wafer yüzeyini bozma eğiliminde olması. Bu durum, üretim sürecinin kararlılığını ve verimini ciddi biçimde etkileyebiliyor.

Ayrıca Bkz."Uçan Çernobil" sahnede; Rusya, nükleer güçle çalışan kıtalararası seyir füzesini test etti

Tüm bu şüphelere rağmen Substrate’e kayda değer yatırımlar yapılmasının başlıca sebeplerinden biri Trump'ın çip konusunda dışa bağımlılığı bitirme ısrarı olabilir. Trump yönetiminin, ülkenin kendi çip ihtiyacının %50’sini yerli üretimle karşılama hedefini açıkladığı bu dönemde, Substrate gibi girişimler stratejik önem kazanmış durumda. Nitekim ABD Ticaret Bakanı Howard Lutnick’in, Substrate kurucusu ile birden fazla kez bir araya gelmesi de dikkat çekiyor. Yani anlayacağınız Substrate, ABD'nin önce ASML'ye, sonra TSMC'ye yerli alternatif çıkarma planının özel sektördeki uzantısı olarak görev görebilir.